L/S 8μm・6μm・(4μm)
インスペックは、リードフレームから液晶用COF、さらにはCSPやFC等、半導体パッケージの検査分野で数多くの検査装置を開発し供給してまいりました。これらの実績で積み重ねた高度な検査技術を余す所なく投入し、全く新しい発想にもとづく画像システムを搭載した、次世代まで対応可能な最新の基板AOIシリーズを展開してまいります。
進化を続ける精密基板メーカーの皆様に、必ずやご期待に添えるものと確信いたします。
透過・反射照明システム
高精度フォーカストラッキング
サブピクセル測長処理
アルゴリズム採用
高速レスポンスとクリアな撮像
AOIの切り出し画像と比較可能
徹底した操作性重視


基板AOI SX2000

ガラスマスクAOI SX6000G

超高速撮像システムの搭載で圧倒的な処理速度を実現!
ベリファイステーション VP1000
基板AOI SX5300
基板AOI SX3300
L/S 120μm・100μm・75μm


測長アルゴリズムと、超高速撮像システムの搭載で、高精度と高速性を両立させました。
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L/S 9μm・8μm・6μm・(4μm)
L/S 50μm・30μm・20μm・(15μm)